本品是一种无色透明的发烟液体，为氟化氢气体的水溶液。相对密度为1.128（40%）有刺激
性气味。为一中等强度的酸。在稀溶液中氢氟酸微离解成离子，在较浓的溶液中，氢氟酸发
生聚合作用而生成h2f2分子，它离解为h2f2＝h+hf2- 腐蚀性极强，能腐蚀玻璃和硅酸盐而生
成气态的四氟化硅，极易挥发，与金属盐类、氧化物、氢氧化物作用生成氟化物，不腐蚀聚
乙烯及白金，氢氟酸即不能进行氧化反应，也不能进行还原反应。有剧毒！触及皮肤则溃烂
本品采用耐腐蚀的塑料瓶或塑料桶包装，桶厚在3mm以上。应贮存于通风良好的库房
里。库房内温度就保持在30℃以下，相对湿度85%以下。运输中严禁受潮、受热和雨
淋。装运时应轻装、轻卸，防止撞击及倒置。
主要用于制无机氟化物，以及治金分析，硅化合物分析。也用于玻璃蚀刻，电镀，试
剂，发酵，陶瓷处理，磨沙灯泡的制造，金属铸件除砂，石墨硅份的去除，金属的净
洗（酸洗铜、黄铜、不锈钢等）和半导体（锗、硅）的制造等

理化性质:氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡黄色冒烟液体。有刺激性气味。分子式 HF-H2O。相对密度 1.15～1.18。沸点 112.2℃(按重量百分比计为38.2%)。市售通常浓度:约47% 。是弱酸。氟化氢的水溶液，其溶质的质量分数可达35.35%。无色溶液，有毒。浓时密度1.14g/cm3，沸点39K（120℃）。发烟雾。具弱酸性，但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解质有别。腐蚀性强，对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全解离。
用途:由于氢氟酸溶解氧化物的能力，它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟酸也用来蚀刻玻璃，半导体工业使用它来除去硅表面的氧化物，除去不锈钢表面的含氧杂质的“浸酸”过程中也会用到氢氟酸。氢氟酸也用于多种含氟有机物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）还有氟利昂一类的致冷剂

操作注意事项： 密闭操作，注意通风。操作尽可能机械化、自动化。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员佩戴自吸过滤式防毒面具（全面罩），穿橡胶耐酸碱服，戴橡胶耐酸碱手套。防止蒸气泄漏到工作场所空气中。避免与碱类、活性金属粉末、玻璃制品接触。搬运时要轻装轻卸，防止包装及容器损坏。配备泄漏应急处理设备。倒空的容器可能残留有害物。

储存注意事项： 储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不超过30℃，相对湿度不超过85%。保持容器密封。应与碱类、活性金属粉末、玻璃制品分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备和合适的收容材料。监测方法：离子选择性电极法；氟试剂－镧盐比色法

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